Method for producing antifungal nanolayer on the surface of textile materials

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób wytwarzania nanowarstwy przeciwgrzybiczej na powierzchni materiałów tekstylnych, polegający na wstępnej aktywacji powierzchni tego materiału nierównowagową plazmą niskociśnieniową generowaną w argonie, a następnie wytworzeniu na tak przygotowanej powierzchni nanowarstwy związku antygrzybiczego w drodze sczepiania z fazy gazowej prekursora. Sposób ten charakteryzuje się tym, że aktywację powierzchni materiału tekstylnego plazmą generowaną w argonie i wytworzenie na tak przygotowanej powierzchni nanowarstwy związku antygrzybiczego prowadzi się w reaktorze plazmowym w jednym procesie. Nanowarstwę antygrzybiczą wytwarza z pary związku zawierającego grupę fenylową oraz grupę winylową, wprowadzonej do reaktora ewentualnie w mieszaninie z argonem, przy czym wytwarzanie tej nanowarstwy prowadzi się w obecności plazmy lub też bez udziału plazmy.