Method of limiting micro arc discharges in the magnetron sputtering process
Istotą wynalazku jest sposób zapobiegania mikrowyładowaniom łukowym w mniej intensywnie rozpylanych strefach targetu poprzez zastosowanie izolujących nakładek ceramicznych, ulokowanych na powierzchni targetu w tych strefach. Na powierzchni targetu zastosowano izolujące nakładki ceramiczne w postaci...
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; pol |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Zusammenfassung: | Istotą wynalazku jest sposób zapobiegania mikrowyładowaniom łukowym w mniej intensywnie rozpylanych strefach targetu poprzez zastosowanie izolujących nakładek ceramicznych, ulokowanych na powierzchni targetu w tych strefach. Na powierzchni targetu zastosowano izolujące nakładki ceramiczne w postaci pierścienia ceramicznego (4) oraz krążka ceramicznego (5). |
|---|