Prosess for gjenvinning av silisiummetall av hoy renhet

Prosess for gjenbruk av skrap eller andre Si-rester av høyrent silisium, som for eksempel sagspon eller avskjær fra produksjon av solcelleskiver eller halvlederinnretninger, karakterisert ved at de tørre restene, avskjæret, og/eller Si-rester fra wafer-produksjonsprosesser eller halvlederenheter, brukes som råstoff sammen med metallurgisk silisium i en direkte kloreringsreaktor (1) der det produseres silisiumtetrakloid, SiCl4. Ureagerte rester eller andre små partikler som unnslipper fra reaksjonssonen ureagert blir fortløpende ført tilbake til reaktoren for videre klorering uansett størrelse. Utstyret som inkluderes i prosessen kan i tilegg til reaktoren (1) innbefatte en lagrings- og blandingsinnretning (2) for blanding og lagring av Si-materiale/restene, en utvinningsinnretning (3) for separasjon og utvinning av Si-holdige partikler som unnslipper fra reaksjonssonen i reaktoren og føres tilbake til reaksjonssonen i reaktoren av et tilbakeføringsorgan (9), en kondenseringsenhet (10) der de minste partiklene som unnslipper fra reaksjonssonen i reaktoren og utvinningsenheten samles i et slam sammen med flytende SiCl4, og en blandingsenhet (13) som tilføres ytterligere spon, avskjær og andre Si-rester fra wafer-produksjonsprosesser eller halvlederinnretninger, der de blandes med det eksisterende SiCL4/Si-slammet som så føres direkte til reaksjonssonen i reaktoren for kjøling og temperaturkontroll. A process for the re-use of remainders or other residual Si of high purity silicon such as saw dust or kerf from manufacturing of solar cells wafers or semi-conductor devices, is characterized in that the dry kerf, chips and/or other residual Si from wafer production processes or semi-conductor devices is used as feedstock together with metallurgical grade silicon in a direct chlorination reactor (1) producing silicon tetrachloride, SiCl4. Unreacted kerf or other small particles that escape the reaction zone unreacted are repeatedly returned to the reactor for further chlorination regardless of their size. The equipment included in the process may, beyond the reactor (1), comprise a storage and mixing device (2) for the mixing and storage of the Si material/kerf, a recovery device (3) for separation and recovery of Si containing particles escaping the reaction zone of the reactor and being returned to the reaction zone of the reactor by a return feeding means (9), a condensation unit (10) in which the smallest sized particles escaping the reaction zone of the reac