VAPOR DEPOSITION OF DISSIMILAR MATERIALS

A method for depositing a first material on a substrate includes providing the substrate in a deposition chamber. A molten body is formed between the substrate and a source of the first material by melting one or more second materials. A flow of the first material is passed through the molten body a...

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1. Verfasser: MONIKA D. KINSTLER
Format: Patent
Sprache:eng ; spa
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method for depositing a first material on a substrate includes providing the substrate in a deposition chamber. A molten body is formed between the substrate and a source of the first material by melting one or more second materials. A flow of the first material is passed through the molten body and from the molten body to the substrate as a vapor flow. An essentially non-expending portion of the molten body comprises an alloy having a melting temperature below a melting temperature of the first material. Un metodo para depositar un primer material sobre un sustrato incluye proporcionar al sustrato en una camara de deposicion. Se forma un cuerpo fundido entre el sustrato y una fuente del primer material al fundir uno o mas segundos materiales. Se hace pasar un flujo del primer material a traves del cuerpo fundido y desde el cuerpo fundido al sustrato como un flujo de vapor. Una porcion que esencialmente no se gasta del cuerpo fundido comprende una aleacion que tiene una temperatura de fusion inferior a la temperatura de fusion del primer material.