METHOD OF DYNAMICALLY CHANGING STITCH DENSITY FOR OPTIMAL QUILTER THROUGHPUT

A method of dynamically changing stitch density of a pattern during sewing is provided. Embodiments of the invention include dynamically changing stitch density along an axis of a sewing pattern based on identifying pattern elements, which may include line segments and arc segments. Each of the line...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Terrance L. MYERS, Jason B. TURNER, Joshua A. CARRIER, John Tony GARRETT, Jefferson W. MYERS
Format: Patent
Sprache:eng ; spa
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method of dynamically changing stitch density of a pattern during sewing is provided. Embodiments of the invention include dynamically changing stitch density along an axis of a sewing pattern based on identifying pattern elements, which may include line segments and arc segments. Each of the line and/or arc segments is assigned a dynamically adjusted stitch density based on analysis of each pattern element and/or adjacent element. An adjusted stitch density is assigned to portions of pattern elements that satisfy a threshold measurement for sewing with an adjusted stitch density. In embodiments, a standard stitch density, intermediate stitch density, or an altered stitch density is automatically assigned to each portion of a sewing pattern based on an analysis of threshold length of an element, a threshold angle of a portion of the element with respect to the axis, and/or the stitch density assigned to an adjacent element. Se proporciona un método para cambiar de modo dinámico la densidad de puntada de un patrón durante la costura. Las modalidades de la invención incluyen cambiar de modo dinámico la densidad de puntada a lo largo de un eje de un patrón de costura con base en la identificación de los elementos de patrón, que pueden incluir segmentos de línea y segmentos de arco. A cada uno de los segmentos de línea y/o de arco se les asigna una densidad de puntada ajustada de modo dinámico con base en el análisis de cada elemento de patrón y/o elemento adyacente. Una densidad de puntada ajustada se asigna a las porciones de los elementos de patrón que cumplen una medición umbral para coserse con una densidad de puntada ajustada. En las modalidades, una densidad de puntada convencional, una densidad de puntada intermedia, o una densidad de puntada alterada se asigna de forma automática a cada porción de un patrón de costura con base en un análisis de la longitud umbral de un elemento, un ángulo umbral de una porción del elemento con respecto al eje, y/o la densidad de puntada asignada a un elemento adyacente.