GAS DISTRIBUTION PLATE, FLUIDIZATION DEVICE, AND REACTION METHOD

A gas distribution plate (6) comprises a metal plate, middle holes and peripheral holes. The ratio D1/D1' of the diameter D1 of a middle hole to the diameter D1' of a peripheral hole meets the relation of 1.10 ≥ D1/D1' > 1.00. Also provided are a fluidization device comprising th...

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Hauptverfasser: WU Lianghua, ZHAO Le
Format: Patent
Sprache:eng ; spa
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Beschreibung
Zusammenfassung:A gas distribution plate (6) comprises a metal plate, middle holes and peripheral holes. The ratio D1/D1' of the diameter D1 of a middle hole to the diameter D1' of a peripheral hole meets the relation of 1.10 ≥ D1/D1' > 1.00. Also provided are a fluidization device comprising the gas distribution plate, and a use thereof in an oxidation reaction or ammoxidation reaction method. Se describe un plato de distribución de gas, que comprende un plato metálico, aberturas centrales y aberturas periféricas, en donde una proporción D1/D1¿ del diámetro de apertura D1 (expresado en una unidad de mm) de la abertura central al diámetro de apertura D1¿ (expresado en una unidad de mm) de la abertura periférica satisface la relación de 1.10 ¿ D1/D1¿ > 1.00. También se describen un dispositivo de fluidización que comprende el plato de distribución de gas y la aplicación del dispositivo de fluidización en un procedimiento de reacción de oxidación o amoxidación; el plato de distribución de gas tiene una ventaja de distribución uniforme de gas.