METHOD OF DETECTING A CONCEALED PATTERN

A method for detecting a component including a concealed pattern includes: detecting infrared electromagnetic radiation reflected or emitted by a component including a first pattern, the component including: a substrate; the first pattern disposed over at least a portion of the substrate; an optional primer layer disposed between at least a portion of the substrate and at least a portion of the first pattern; and a first visibly opaque layer including an infrared transparent pigment, the first visibly opaque layer disposed over at least a portion of the first pattern; and comparing the reflectivity and/or absorbance of infrared electromagnetic radiation by the first pattern at one wavelength to the reflectivity and/or absorbance by the primer layer and/or the substrate at the same wavelength. Un método para detectar un componente que incluye un patrón oculto incluye: detectar radiación electromagnética infrarroja reflejada o emitida por un componente que incluye un primer patrón, en donde el componente incluye: un sustrato; un primer patrón dispuesto sobre al menos una porción del sustrato; una capa de imprimación opcional dispuesta entre al menos una porción del sustrato y al menos una porción del primer patrón; y una primera capa visiblemente opaca que incluye un pigmento transparente infrarrojo, en donde la primera capa visiblemente opaca está dispuesta sobre al menos una porción del primer patrón; y comparar la reflectividad y/o absorbancia de radiación electromagnética infrarroja del primer patrón en una longitud de onda con la reflectividad y/o absorbancia de la capa de imprimación y/o el sustrato en la misma longitud de onda.