METHOD FOR LOCATING FAILURES IN PHOTOVOLTAIC ARRAYS
The present disclosure is related to a method that enables locating failures in photovoltaic arrays. The irradiance, to which the photovoltaic array under evaluation is subjected, must have a magnitude of less than 1 W/m2. Initially, the array is induced by a voltage signal having a constant frequen...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; spa |
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Zusammenfassung: | The present disclosure is related to a method that enables locating failures in photovoltaic arrays. The irradiance, to which the photovoltaic array under evaluation is subjected, must have a magnitude of less than 1 W/m2. Initially, the array is induced by a voltage signal having a constant frequency. Subsequently, the voltage delivered by the photovoltaic array is analyzed, making use of several digital signal processing techniques and statistical means comparison techniques. The magnitude of the frequency component that corresponds to the frequency of the voltage signal induced to the array, will allow locating failures due to branches of the photovoltaic array in open circuit condition, as well as failures by panels that are in short circuit condition.
La presente invención se refiere a un método que permite la localización de fallas en un arreglo fotovoltaico. La irradiancia a la que se somete el arreglo fotovoltaico bajo evaluación debe tener una magnitud menor a 1 W/m2. Inicialmente se induce al arreglo una señal de voltaje que presenta una frecuencia constante. Posteriormente se analiza el voltaje entregado por el arreglo fotovoltaico, haciendo uso de técnicas de procesamiento digital de señales y de técnicas estadísticas de comparación de medias. La magnitud de la componente de frecuencia que corresponde a la frecuencia de la señal de voltaje inducida al arreglo, permitirá la localización de fallas debidas a ramas del arreglo fotovoltaico en condición de circuito abierto, así como también a fallas por paneles que encuentren en condición de cortocircuito. |
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