MAGNETIC DEVICE FOR DIRECT DEPOSITION OF MATERIALS IN CHEMICAL REACTORS

The present invention relates to a device consisting of three elements, used in a tubular reactor for chemical steam deposition, which enables the direct steam deposition over the catalyst thus obtaining nanostructured materials. All of this, impulse by a magnetic handler with circular crown magnets over a cylindrical sample holder, ventrally located by a circular segment magnet of the exterior reactor surface. These devices afford the possibility of using the CVD process through a single furnace tubular reactor thus increasing energy efficiency and product performance. La presente invención se refiere a un dispositivo que consta de tres elementos que se utilizan en un reactor tubular para deposición química de vapor, que permite depositar directamente el vapor sobre el catalizador para obtener materiales nanoestructurados. Un manejador magnético con imanes en forma de corona circular impulsa un porta muestras cilíndrico en el interior del reactor mediante un imán de segmento circular en el exterior del reactor. Estos dispositivos permiten utilizar el proceso CVD mediante un reactor tubular de un solo horno, incrementando la eficiencia energética y el rendimiento de producto.