HIGH DENSITY REFRACTORY METALS & ALLOYS SPUTTERING TARGETS

The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced. La presente invención se refiere a un proceso pa...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GLEN ZEMAN, PRABHAT KUMAR, CHARLES B. WOOD, STEVEN A. MILLER, RONGIN RICHARD WU, GARY ROZAK
Format: Patent
Sprache:eng ; spa
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced. La presente invención se refiere a un proceso para producir productos de metales refractarios de alta densidad, vía un proceso de presión/sinterización. La invención también se dirige a un proceso para producir un blanco por pulverización catódica y al blanco de pulverización catódica así producido.