HIGH DENSITY REFRACTORY METALS & ALLOYS SPUTTERING TARGETS
The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced. La presente invención se refiere a un proceso pa...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; spa |
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Zusammenfassung: | The present invention is directed to a process for producing high density, refractory metal products via a press/sintering process. The invention is also directed to a process for producing a sputtering target and to the sputtering target so produced.
La presente invención se refiere a un proceso para producir productos de metales refractarios de alta densidad, vía un proceso de presión/sinterización. La invención también se dirige a un proceso para producir un blanco por pulverización catódica y al blanco de pulverización catódica así producido. |
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