PROCESO PARA EL AISLAMIENTO DIRECTO DE CAPTOPRIL

La presente invención se refiere a un proceso para la preparación de un producto de la fórmula (I) caracterizado porque comprende: a) hacer reaccionar un substrato de la fórmula II en donde R es alquilo inferior o alcoxi inferior, con una solución acuosa de aproximadamente 4 M o más grande de hidróx...

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Hauptverfasser: ROBERT E. POLOMSKI, BARBARA J. BENNETT, DAVID A. LUST, ALAN F. FELDMAN, NEAL G. ANDERSON
Format: Patent
Sprache:spa
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Beschreibung
Zusammenfassung:La presente invención se refiere a un proceso para la preparación de un producto de la fórmula (I) caracterizado porque comprende: a) hacer reaccionar un substrato de la fórmula II en donde R es alquilo inferior o alcoxi inferior, con una solución acuosa de aproximadamente 4 M o más grande de hidróxido de sodio, hidróxido de litio o hidróxido de potasio, para formar una mezcla de reacción que comprende: en donde M es un ión de sodio, litio o potasio; y b) neutralizar la mezcla de reacción para formar el producto. A process is disclosed for direct isolation of captopril from a substrate of the formula wherein R is lower alkyl or lower alkoxy. In this process, the substrate is first treated with an aqueous alkali metal hydroxide capable of forming a water-soluble salt of the substrate, wherein the alkali metal hydroxide has a concentration of 4 M or greater. The substrate is then neutralized, preferably with a mineral acid. By this process, captopril may be directly crystallized from an aqueous solution, avoiding the prior art use of organic solvents and zinc treatment to reduce levels of sulfide and disulfide impurities, respectively. In an alternative embodiment, neutralization is carried out by use of a hydrogen-supplying ion exchange resin.