Multi Patterning Method

본 발명의 다중 패터닝은 식각 장비에서 포토레지스트 패턴 및 그 하부의 하드마스크 패턴의 측벽에 카본 폴리머층을 형성하여 희생층을 형성할 수 있다. 또한, 카본 폴리머층에 의하여 형성된 함몰된 공간은 트랙 장비의 스핀 코팅 공정을 사용하여 탄소함유 스핀코팅층 또는 실리콘(Si) 함유 스핀코팅층으로 채워질 수 있다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	BAK MIN JUN, LEE WAN GYU, YOON BONG NO, OH JAE SUB, SONG JUNG CHUL
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 다중 패터닝은 식각 장비에서 포토레지스트 패턴 및 그 하부의 하드마스크 패턴의 측벽에 카본 폴리머층을 형성하여 희생층을 형성할 수 있다. 또한, 카본 폴리머층에 의하여 형성된 함몰된 공간은 트랙 장비의 스핀 코팅 공정을 사용하여 탄소함유 스핀코팅층 또는 실리콘(Si) 함유 스핀코팅층으로 채워질 수 있다.