하이브리드 본딩 절연막 형성 재료, 반도체 장치의 제조 방법, 및 반도체 장치
(A) 중합성의 불포화 결합 부위를 갖는 폴리이미드 전구체와, (B) 용제와, (C) 옥심계 광중합 개시제를 포함하는 하이브리드 본딩 절연막 형성 재료. This hybrid bonding insulation film-forming material comprises: (A) a polyimide precursor having a polymerizable unsaturated bond site; (B) a solvent; and (C) an oxime-based photopolymerization initiator....
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | (A) 중합성의 불포화 결합 부위를 갖는 폴리이미드 전구체와, (B) 용제와, (C) 옥심계 광중합 개시제를 포함하는 하이브리드 본딩 절연막 형성 재료.
This hybrid bonding insulation film-forming material comprises: (A) a polyimide precursor having a polymerizable unsaturated bond site; (B) a solvent; and (C) an oxime-based photopolymerization initiator. |
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