SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
반도체 장치는, 워드라인들; 선택 라인; 상기 워드라인들을 통해 상기 선택 라인 내로 연장된 채널막; 상기 채널막과 상기 선택 라인의 사이에서 상기 채널막의 측벽을 감싸는 플로팅 게이트; 및 상기 채널막과 상기 워드라인들의 사이에서 상기 채널막의 측벽을 감싸는 제1 부분 및 상기 채널막과 상기 선택 라인의 사이에서 상기 플로팅 게이트를 감싸는 제2 부분을 포함하는 전하 트랩막을 포함할 수 있다. A semiconductor device may include: a plurality of word lines; a select line;...
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| Hauptverfasser: | , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
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