펠리클 세정 시스템

펠리클, 레티클, 웨이퍼 또는 다른 리소그래피 구성요소와 같은 리소그래피 공정에 관련된 구성요소를 세정하기 위한 세정 시스템이 제공되며, 상기 세정 시스템은 적어도 하나의 방사선 방출기를 포함하고, 상기 적어도 하나의 방사선 방출기는 사용 시 상기 구성요소의 영역을 조사하여 상기 구성요소에 열기계적 진동을 유발하고/유발하거나 상기 구성요소에 존재하는 오염물의 스퍼터링(sputtering)을 유도하게끔 상기 구성요소의 영역을 조사하도록 구성된다. A cleaning system for cleaning a component relate...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	VERMEULEN PAUL ALEXANDER, WOLF ABRAHAM JAN, KLEIN ALEXANDER LUDWIG, GRISIN ILJA, TE SLIGTE EDWIN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	펠리클, 레티클, 웨이퍼 또는 다른 리소그래피 구성요소와 같은 리소그래피 공정에 관련된 구성요소를 세정하기 위한 세정 시스템이 제공되며, 상기 세정 시스템은 적어도 하나의 방사선 방출기를 포함하고, 상기 적어도 하나의 방사선 방출기는 사용 시 상기 구성요소의 영역을 조사하여 상기 구성요소에 열기계적 진동을 유발하고/유발하거나 상기 구성요소에 존재하는 오염물의 스퍼터링(sputtering)을 유도하게끔 상기 구성요소의 영역을 조사하도록 구성된다. A cleaning system for cleaning a component related to a lithographic process such as a pellicle, reticle, wafer or another lithographic component, comprising at least one radiation emitter configured to, in use, irradiate a region of the component so as to cause thermomechanical vibrations in the component and/or induce sputtering of contaminants present on the component.