감광성 수지 조성물, 경화물, 경화물의 제조 방법, 유기 EL 표시 장치 및 표시 장치

본 발명은 감도가 높고, 경화 시의 가열 분위기에 관계없이 경화 후의 투과율이 낮은 막을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지(a), 1개의 방향환 내에 적어도 1개의 방향족 C-H 결합 및 적어도 3개의 페놀성 수산기를 갖는 방향족 탄화수소(b), 식(1)으로 나타내어지는 부분 구조를 갖는 열가교제(c) 및 감광성 화합물(e)을 함유한다. JPEGpct00031.jpg2680 (식(1) 중, R10은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다. *는 각각 결합손을 나타내지만...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	NISHIOKA HIROKI, KOMORI YUSUKE
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 감도가 높고, 경화 시의 가열 분위기에 관계없이 경화 후의 투과율이 낮은 막을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지(a), 1개의 방향환 내에 적어도 1개의 방향족 C-H 결합 및 적어도 3개의 페놀성 수산기를 갖는 방향족 탄화수소(b), 식(1)으로 나타내어지는 부분 구조를 갖는 열가교제(c) 및 감광성 화합물(e)을 함유한다. JPEGpct00031.jpg2680 (식(1) 중, R10은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다. 는 각각 결합손을 나타내지만, 질소 원자에 카르보닐기는 인접하지 않는다.) The present invention relates to a photosensitive resin composition that has high sensitivity and can form a low-transmittance film after curing irrespective of the heating atmosphere during curing. This photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (a), an aromatic hydrocarbon (b) having at least one aromatic C-H bond and at least three phenolic hydroxyl groups per aromatic ring, a thermal cross-linking agent (c) having a partial structure represented by formula (1), and a photosensitive compound (e). (In formula (1), R10 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Each represents a bond, but no carbonyl group is adjacent to the nitrogen atom.)