3차원 이미지 정합을 통한 단일 입자의 강화된 간섭 측정 검출 및 특성화를 위한 방법 및 시스템

본 명세서에는 기판의 표면에 결합된 타깃 입자들의 이미지를 분석하기 위한 시스템 및 방법이 제시되어 있다. 일정 실시예에서, 본 명세서에 설명된 시스템 및 방법은 작은 입자의 간섭 측정 이미지에서 배경 잡음을 제거하는 기술을 이용하여 개개의 입자의 검출 및/또는 특성화의 정확성을 높인다. 본 명세서에 설명된 바와 같이 그러한 기술은 약 100 nm 미만(예컨대, 20 nm에 이르기까지; 예컨대, 약 50 nm 미만) 크기를 갖는 개개의 입자가 이미지 내에서 정확하게 검출되도록 할 수 있으며, 무엇보다도, 예컨대 콘트라스트(contrast)를 이용하여 그 특징적인 크기가 측정되도록 할 수 있다. Presented herein are systems and methods for analyzing images of target particles that are bound to a surface of a substrate. In certain embodiments, systems and method described herein utilize techniques that remove background noise from interferometric images of small particles, allowing for increased accuracy in detection and/or characterization of individual particles. Such techniques, as described herein, may allow individual particles having sizes below about 100 nm (e.g., below about 50 nm; e.g., down to 20 nm) to be accurately detected within images, and, among other things, their characteristic sizes measured utilizing, e.g., their contrast.