Substrate processing apparatus and substrate processing method
본 발명은, 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 엔코더의 정상작동 여부를 판단할 수 있는 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법에 관한 것이다. 본 발명은, 내부공간(S)을 형성하는 공정챔버(100)와; 기판(1)이 안착 고정되며 상기 내부공간(S)에 제1방향을 회전축으로 회전가능하도록 축부(210)를 포함하여 설치되는 스테이지부(200)와; 상기 축부(210)에 연결되어 상기 스테이지부(200)를 플립 회전시키는 플립구동부(300)와; 상기 축부(210)에 구비되어 상기 축부(210)의 회...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 본 발명은, 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 엔코더의 정상작동 여부를 판단할 수 있는 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법에 관한 것이다. 본 발명은, 내부공간(S)을 형성하는 공정챔버(100)와; 기판(1)이 안착 고정되며 상기 내부공간(S)에 제1방향을 회전축으로 회전가능하도록 축부(210)를 포함하여 설치되는 스테이지부(200)와; 상기 축부(210)에 연결되어 상기 스테이지부(200)를 플립 회전시키는 플립구동부(300)와; 상기 축부(210)에 구비되어 상기 축부(210)의 회전각도로서 제1회전값을 측정하는 엔코더부(400)와; 상기 제1방향을 포함하는 가상의 기준평면과 상기 스테이지부(200) 사이각을 통해 상기 축부(210)의 회전각도로서 제2회전값을 산출하며, 상기 제1회전값과 상기 제2회전값을 비교하여 상기 엔코더부(400)의 이상여부를 판단하는 엔코더이상감지부(500)를 포함하는 기판처리장치를 개시한다. |
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