멀티-요소 초해상도 광학 검사 시스템
방법이 개시된다. 방법은 제1 검사 서브시스템을 사용하여 샘플의 제1 광학 이미지를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 제1 광학 이미지는 광발광성 마커들의 제1 세트가 제1 시간 구간에서 광발광성 조명을 방출하고 있을 때 생성될 수 있다. 방법은 추가 검사 서브시스템을 사용하여 추가 광학 이미지들을 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 추가 광학 이미지들은 추가 광발광성 마커들이 추가 시간 구간에서 광발광성 조명을 방출하고 있을 때 생성될 수 있다. 방법은 제1 광학 이미지 및 추가 광학 이미지들에 기초하여 누적 광학 이미지를 생성하는...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 방법이 개시된다. 방법은 제1 검사 서브시스템을 사용하여 샘플의 제1 광학 이미지를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 제1 광학 이미지는 광발광성 마커들의 제1 세트가 제1 시간 구간에서 광발광성 조명을 방출하고 있을 때 생성될 수 있다. 방법은 추가 검사 서브시스템을 사용하여 추가 광학 이미지들을 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 추가 광학 이미지들은 추가 광발광성 마커들이 추가 시간 구간에서 광발광성 조명을 방출하고 있을 때 생성될 수 있다. 방법은 제1 광학 이미지 및 추가 광학 이미지들에 기초하여 누적 광학 이미지를 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 누적 광학 이미지에 기초하여 광발광성 마커들의 위치를 결정하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 결정된 광발광성 마커들의 위치에 기초하여 샘플의 패턴을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
A method is disclosed. The method may include generating a first optical image of a sample with a first inspection sub-system. The first optical image may be generated when a first set of photoluminescent markers are emitting photoluminescent illumination at a first time interval. The method may include generating additional optical images with an additional inspection sub-system. The additional optical images may be generated when additional photoluminescent markers are emitting photoluminescent illumination at additional time intervals. The method may include generating an accumulated optical image based on the first optical image and the additional optical images. The method may include determining a location of the photoluminescent markers based on the accumulated optical image. The method may include determining a pattern of the sample based on the determined location of the photoluminescent markers. |
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