Chemical vapor deposition system of serial structure for producing nano-carbon material and hydrogen from carbon dioxide and production method using the same

본 발명은 가스공급부, 가스공급부와 연결되어 가스를 공급받고 가스로부터 1차반응생성물을 생성하는 전단반응부 및 전단반응부의 상방으로 소정거리 이격되도록 배치되고 상기 1차반응생성물을 전달받아 상기 1차반응생성물로부터 2차반응생성물을 생성하는 후단반응부를 구비하는 반응모듈, 전단반응부의 내부에 형성되는 제1수분흡착부 및 전단반응부와 후단반응부의 사이에 배치되는 제2수분흡착부를 구비하는 수분흡착모듈 및 전단반응부의 하부에 위치하고 전단반응부에서 1차반응생성물을 생성할 시 생성되는 수분을 포집하는 수분포집부를 포함하고, 전단반응부, 후단...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YANG JUNG HOON, KIM JUNG PIL, OH EUNG CHAE
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY CHEMISTRY COMPOUNDS THEREOF INORGANIC CHEMISTRY METALLURGY NON-METALLIC ELEMENTS ORGANIC CHEMISTRY PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 가스공급부, 가스공급부와 연결되어 가스를 공급받고 가스로부터 1차반응생성물을 생성하는 전단반응부 및 전단반응부의 상방으로 소정거리 이격되도록 배치되고 상기 1차반응생성물을 전달받아 상기 1차반응생성물로부터 2차반응생성물을 생성하는 후단반응부를 구비하는 반응모듈, 전단반응부의 내부에 형성되는 제1수분흡착부 및 전단반응부와 후단반응부의 사이에 배치되는 제2수분흡착부를 구비하는 수분흡착모듈 및 전단반응부의 하부에 위치하고 전단반응부에서 1차반응생성물을 생성할 시 생성되는 수분을 포집하는 수분포집부를 포함하고, 전단반응부, 후단반응부, 제1수분흡착부 및 제2수분흡착부는 서로 일직선상에 위치하여 직렬식으로 배치되어 연결되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소로부터 나노탄소소재 및 수소를 생산하는 직렬식 구조의 화학기상증착 시스템을 제공한다.