수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스

하기 식 (1)로 나타나는 반복 단위, 및, 하기 식 (2)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리이미드 전구체와, 중합성 화합물과, 중합 개시제를 함유하는 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스. JPEGpct00100.jpg38149 A resin composition containing a polyimide precursor that includes a repeating unit represented by formula (1) and a re...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	NOZAKI ATSUYASU
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	하기 식 (1)로 나타나는 반복 단위, 및, 하기 식 (2)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리이미드 전구체와, 중합성 화합물과, 중합 개시제를 함유하는 수지 조성물, 경화물, 적층체, 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스. JPEGpct00100.jpg38149 A resin composition containing a polyimide precursor that includes a repeating unit represented by formula (1) and a repeating unit represented by formula (2), a polymerizable compound, and a polymerization initiator; a cured article; a laminate; a method for producing a cured article; a method for producing a laminate; a method for producing a semiconductor device; and a semiconductor device.