기판 처리 장치

본 개시의 일 양태에 의한 기판 처리 장치는, 처리 대상의 기판이 내부에 수용되어, 기판 처리가 실시되는 처리 용기와, 상기 처리 용기의 내부에 제1 이온 액체를 공급하는 액체 공급부와, 상기 처리 용기의 내부로부터 상기 제1 이온 액체를 회수하는 액체 회수부와, 상기 액체 회수부와 상기 액체 공급부를 접속하는 접속관과, 상기 접속관에 가스를 공급하여, 상승하는 상기 가스의 가스 리프트 펌프 작용에 의해, 상기 액체 회수부로부터 상기 액체 공급부에 상기 제1 이온 액체를 보내는 가스 공급부를 갖는다. A substrate proce...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	UMESHITA NAOKI, ASAKO RYUICHI, AKIMOTO TOSHIKAZU, MATSUZAKI KAZUYOSHI, AKIYAMA KOJI, UEDA HIROKAZU
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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