METHODS OF FORMING AN ABRASIVE SLURRY AND METHODS FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING

폴리싱 공정을 수행하는 방법이 제공된다. 방법은 구형 티타늄 이산화물 나노 입자를 형성하는 단계, 구형 티타늄 이산화물 나노 입자를 유기질 코팅으로 덮는 단계, 구형 티타늄 이산화물 나노 입자를 산화제와 함께 보관하는 단계, 구형 티타늄 이산화물 나노 입자로 폴리싱 용액을 형성하는 단계, 워크 피스의 표면 상에 폴리싱 용액을 도포하는 단계, 및 폴리싱 용액으로 워크 피스의 표면을 폴리싱하는 단계를 포함한다. A method of performing a polishing process is provided. The method may...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YOU SHENG MU, LIU CHI JEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ADHESIVES BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS GRINDING MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS PERFORMING OPERATIONS POLISHES POLISHING POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SEMICONDUCTOR DEVICES SKI WAXES TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	폴리싱 공정을 수행하는 방법이 제공된다. 방법은 구형 티타늄 이산화물 나노 입자를 형성하는 단계, 구형 티타늄 이산화물 나노 입자를 유기질 코팅으로 덮는 단계, 구형 티타늄 이산화물 나노 입자를 산화제와 함께 보관하는 단계, 구형 티타늄 이산화물 나노 입자로 폴리싱 용액을 형성하는 단계, 워크 피스의 표면 상에 폴리싱 용액을 도포하는 단계, 및 폴리싱 용액으로 워크 피스의 표면을 폴리싱하는 단계를 포함한다. A method of performing a polishing process is provided. The method may include forming spherical titanium dioxide nano-particles, covering the spherical titanium dioxide nano- particles with an organic coating, storing the spherical titanium dioxide nano-particles together with an oxidizer, forming a polishing solution with the spherical titanium dioxide nano-particles, applying the polishing solution on a surface of a work piece, and polishing the surface of the work piece with the polishing solution.