Apparatus for cleaning a semiconductor wafer

반도체 웨이퍼 세정장치에 관하여 개시한다. 본 발명은, 상부에 웨이퍼가 얹혀지고 상기 웨이퍼를 지지하여 모터의 축에 조립되어 회전하는 스핀 들; 상기 스핀들을 중심으로 그 주변부에 배치되어 정제수와 버블수 중에서 선택된 어느 하나의 유체, 또는 상기 정제수와 버블수가 혼합된 혼합 유체를 배출하는 제1 노즐; 상기 제1 노즐과 구분되는 위치에 배치하되, 상기 스핀들을 중심으로 그 주변부에 배치되어 세정제를 배출하는 제2 노즐; 및 상기 스핀들의 일단에 고정 설치되어 상기 제1 노즐로부터 배출되는 유체와 상기 세정제를 촉매로 초음파를...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	CHOI DONG YEOL
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS BASIC ELECTRIC ELEMENTS CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY NOZZLES PERFORMING OPERATIONS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	반도체 웨이퍼 세정장치에 관하여 개시한다. 본 발명은, 상부에 웨이퍼가 얹혀지고 상기 웨이퍼를 지지하여 모터의 축에 조립되어 회전하는 스핀 들; 상기 스핀들을 중심으로 그 주변부에 배치되어 정제수와 버블수 중에서 선택된 어느 하나의 유체, 또는 상기 정제수와 버블수가 혼합된 혼합 유체를 배출하는 제1 노즐; 상기 제1 노즐과 구분되는 위치에 배치하되, 상기 스핀들을 중심으로 그 주변부에 배치되어 세정제를 배출하는 제2 노즐; 및 상기 스핀들의 일단에 고정 설치되어 상기 제1 노즐로부터 배출되는 유체와 상기 세정제를 촉매로 초음파를 출력하여 상기 웨이퍼를 세척하는 초음파 모듈;을 포함하여 구성될 수 있다.