SUBSTRATE TREATING APPARATUS

기판 처리 장치는 가스를 플라즈마로 변환하는 플라즈마 발생부, 플라즈마 발생부와 연결되고, 플라즈마를 공급하는 공급로 및 공급로를 통해 공급받은 플라즈마를 확산시키는 확산판을 포함하고, 확산판은 원뿔대의 형상을 가지고, 플라즈마가 유입되며, 공급로와 공간적으로 연결되는 관통홀을 정의하는 제1 몸체부 및 제1 몸체부와 연결되고, 관통홀과 공간적으로 연결되는 내부 공간을 가지며, 내부 공간을 노출시키는 제1 개구부를 정의하는 측면을 가지는 제2 몸체부를 포함한다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PARK HYUN KU, CHANG YONG MUN, PARK SEON UK, LIM EUN CHAN, YOO HAE YOUNG, LEE EUN SOO, LEE JAE RYONG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판 처리 장치는 가스를 플라즈마로 변환하는 플라즈마 발생부, 플라즈마 발생부와 연결되고, 플라즈마를 공급하는 공급로 및 공급로를 통해 공급받은 플라즈마를 확산시키는 확산판을 포함하고, 확산판은 원뿔대의 형상을 가지고, 플라즈마가 유입되며, 공급로와 공간적으로 연결되는 관통홀을 정의하는 제1 몸체부 및 제1 몸체부와 연결되고, 관통홀과 공간적으로 연결되는 내부 공간을 가지며, 내부 공간을 노출시키는 제1 개구부를 정의하는 측면을 가지는 제2 몸체부를 포함한다.