Substrate processing apparatus

Substrate processing apparatus

본 발명은 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 초임계유체를 이용하여 기판에 대한 건조공정 등의 처리공정을 진행하는 경우에 기판 상의 처리액 또는 유기용매의 유실에 의한 기판의 손상 등을 방지할 수 있는 기판처리장치에 대한 것이다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JU JUNG MYOUNG, MA HEE JEON, JUNG IN IL
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 초임계유체를 이용하여 기판에 대한 건조공정 등의 처리공정을 진행하는 경우에 기판 상의 처리액 또는 유기용매의 유실에 의한 기판의 손상 등을 방지할 수 있는 기판처리장치에 대한 것이다.