SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD OF TREATING SUBSTRATE USING THE SAME

기판 처리 장치는 챔버, 챔버 내부에서 제1 방향으로 이동 가능한 기판 캐리어, 및 챔버 내부에 배치되고, 기판 캐리어가 통과하는 개구가 정의되며, 개구에 배치되고 회전 가능한 마그넷 필터를 포함하는 필터부를 포함한다. A substrate treating apparatus includes a chamber defining a chamber cavity, a substrate carrier movable in a first direction inside of the chamber cavity, and a filter disposed...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SEO CHANG WOOK, PARK YOUNG HUN, KANG EU GENE, YUN SEUNG GEUN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:기판 처리 장치는 챔버, 챔버 내부에서 제1 방향으로 이동 가능한 기판 캐리어, 및 챔버 내부에 배치되고, 기판 캐리어가 통과하는 개구가 정의되며, 개구에 배치되고 회전 가능한 마그넷 필터를 포함하는 필터부를 포함한다. A substrate treating apparatus includes a chamber defining a chamber cavity, a substrate carrier movable in a first direction inside of the chamber cavity, and a filter disposed inside the chamber cavity, defining an opening through which the substrate carrier passes, and including a magnet filter disposed in the opening and being rotatable.