SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD OF TREATING SUBSTRATE USING THE SAME
기판 처리 장치는 챔버, 챔버 내부에서 제1 방향으로 이동 가능한 기판 캐리어, 및 챔버 내부에 배치되고, 기판 캐리어가 통과하는 개구가 정의되며, 개구에 배치되고 회전 가능한 마그넷 필터를 포함하는 필터부를 포함한다. A substrate treating apparatus includes a chamber defining a chamber cavity, a substrate carrier movable in a first direction inside of the chamber cavity, and a filter disposed...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 기판 처리 장치는 챔버, 챔버 내부에서 제1 방향으로 이동 가능한 기판 캐리어, 및 챔버 내부에 배치되고, 기판 캐리어가 통과하는 개구가 정의되며, 개구에 배치되고 회전 가능한 마그넷 필터를 포함하는 필터부를 포함한다.
A substrate treating apparatus includes a chamber defining a chamber cavity, a substrate carrier movable in a first direction inside of the chamber cavity, and a filter disposed inside the chamber cavity, defining an opening through which the substrate carrier passes, and including a magnet filter disposed in the opening and being rotatable. |
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