로드락 챔버 및 이의 세정방법, 반도체 장비

본 출원은 챔버 본체를 포함하는 로드락 챔버 및 이의 세정방법, 반도체 장비에 관한 것이다. 챔버 본체는 내부에 적어도 하나의 로딩 캐비티가 구성되어 있고, 각각의 로딩 캐비티에 연통되는 기체유입부 및 기체배출부를 갖는다. 여기서, 챔버 본체는 적어도 하나의 분산부를 갖고, 각각의 분산부는 하나의 로딩 캐비티에 대응하여 배치되며; 각각의 분산부는 독립적으로 배치된 복수의 분산홀을 포함하고, 각 분산홀은 기체유입부 및 대응하는 로딩 캐비티와 연통되며, 대응하는 로딩 캐비티로 유입된 기류를 분산시키도록 구성된다. The present...

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Hauptverfasser: ZHOU REN, WU LIUXING, SHI SHUAI
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 출원은 챔버 본체를 포함하는 로드락 챔버 및 이의 세정방법, 반도체 장비에 관한 것이다. 챔버 본체는 내부에 적어도 하나의 로딩 캐비티가 구성되어 있고, 각각의 로딩 캐비티에 연통되는 기체유입부 및 기체배출부를 갖는다. 여기서, 챔버 본체는 적어도 하나의 분산부를 갖고, 각각의 분산부는 하나의 로딩 캐비티에 대응하여 배치되며; 각각의 분산부는 독립적으로 배치된 복수의 분산홀을 포함하고, 각 분산홀은 기체유입부 및 대응하는 로딩 캐비티와 연통되며, 대응하는 로딩 캐비티로 유입된 기류를 분산시키도록 구성된다. The present application relates to a load lock chamber and a cleaning method therefor, and a semiconductor device. The load lock chamber comprises a chamber body. The chamber body is internally provided with at least one load-lock, and is provided with an air inlet portion and an air outlet portion which are communicated with each load-lock, The chamber body is provided with at least one dispersion portion, each dispersion portion is arranged to correspond to one load-lock, each dispersion portion comprises a plurality of independently formed dispersion holes, and each dispersion hole is communicated with the air inlet portion and the corresponding load-lock and is used for dispersing airflow entering the corresponding load-lock.