HEAT TREATMENT DEVICE

본 발명은 워크의 면내에서의 온도의 편차를 작게 할 수 있고, 또한, 메인터넌스 스페이스를 작게 할 수 있는 가열 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 실시형태에 따른 가열 처리 장치는, 내부에, 워크를 가열 처리하는 가열 영역을 갖는 챔버와, 상기 챔버의 제1 측면에 설치되고, 상기 챔버의 내부에서, 제1 방향으로 연장되는 적어도 하나의 제1 히터와, 상기 제1 측면에 설치되고, 상기 제1 히터의 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향에 위치하며, 상기 제1 히터보다 짧은 적어도 하나의 제2 히터와, 상기 챔버의 상기 제1 측면에 대향하는 제2 측면에 설치되고, 상기 챔버의 내부에서, 상기 제1 방향으로 연장되는 적어도 하나의 제3 히터와, 상기 제2 측면에 설치되고, 상기 제3 히터의 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향에 위치하며, 상기 제3 히터보다 짧은 적어도 하나의 제4 히터를 구비하고 있다. 상기 제1 히터 및 상기 제3 히터의, 상기 챔버에 삽입되는 길이는, 상기 제1 측면과 상기 제2 측면 사이의 거리의 절반 이하이다.