A SEDIMENT MONITORING SYSTEM FOR STRUCTURES IN CONTACT WITH FLUIDS
일 실시예에 따른 유체와 접촉하는 구조물의 침전물 감시 시스템은, 유체와 접촉하는 구조물의 일 측면에 부착되어 구조물에 진동을 발생시키는 진동발생부, 구조물의 타 측면에 부착되어 진동발생부로부터 구조물을 통해 전달된 진동의 파형 정보를 계측하는 진동계측부 및 진동계측부로부터 파형 정보를 수신하여 파형 정보를 분석하는 분석부를 포함하고, 분석부는 침전물이 구조물에 부착되지 않은 상태에서 측정된 제1동적 진폭배율에 대한 침전물이 구조물에 부착된 상태에서 측정된 제2동적 진폭배율의 비가 기 설정된 기준치를 초과하는지 여부를 판단하도록 구...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 일 실시예에 따른 유체와 접촉하는 구조물의 침전물 감시 시스템은, 유체와 접촉하는 구조물의 일 측면에 부착되어 구조물에 진동을 발생시키는 진동발생부, 구조물의 타 측면에 부착되어 진동발생부로부터 구조물을 통해 전달된 진동의 파형 정보를 계측하는 진동계측부 및 진동계측부로부터 파형 정보를 수신하여 파형 정보를 분석하는 분석부를 포함하고, 분석부는 침전물이 구조물에 부착되지 않은 상태에서 측정된 제1동적 진폭배율에 대한 침전물이 구조물에 부착된 상태에서 측정된 제2동적 진폭배율의 비가 기 설정된 기준치를 초과하는지 여부를 판단하도록 구성될 수 있다.
A sediment monitoring system for a structure coming into contact with a fluid according to an embodiment may comprise: a vibration generation part which is attached to one side surface of a structure coming into contact with a fluid and generates vibration in the structure; a vibration measuring part which is attached to the other side surface of the structure and measures waveform information of vibration transmitted from the vibration generation part through the structure; and an analyzing part which receives waveform information from the vibration measuring part to analyze the waveform information, wherein the analyzing part is configured to determine whether a ratio of a second dynamic amplitude magnification to a first dynamic amplitude magnification exceeds a preset reference value, the first dynamic amplitude magnification having been measured in a state in which sediment is not attached to the structure, and the second dynamic amplitude magnification having been measured in a state in which sediment is attached to the structure. |
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