ELECTROSTATIC CHUCK AND THIN FILM DEPOSITING APPARATUS INCLUDING THE SAME

일 실시예에 따른 박막 증착 장치는 챔버, 챔버 내에 위치하며 기판에 증착 물질을 공급하는 증착원, 증착 물질이 통과하는 복수의 패턴홀을 포함하는 마스크 조립체, 그리고 기판을 사이에 두고 기판의 두께 방향인 제3 방향으로 마스크 조립체와 대향하며, 기판을 고정하는 정전척을 포함하고, 정전척은, 기판을 지지하는 바디부, 바디부 상에 위치하는 절연층, 절연층 내에 위치하며 바디부로부터 제3 방향으로 제1 거리만큼 이격되어 있는 제1 전극들, 절연층 내에 위치하며 바디부로부터 제3 방향으로 제2 거리만큼 이격되어 있는 제2 전극들, 그리고 절연층 내에 위치하고 바디부로부터 제3 방향으로 제3 거리만큼 이격되어 있는 도전층을 포함하고, 제1 전극들과 제2 전극들은 서로 다른 전압을 인가받고, 제3 거리는 제1 거리보다 크다. A thin film deposition apparatus according to an embodiment includes a chamber, a deposition source disposed in a chamber and that supplies a deposition material to the substrate, a mask assembly comprising pattern holes through which the deposition material passes, and an electrostatic chuck facing the mask assembly and that fixes the substrate. The electrostatic chuck comprises a body that supports the substrate, an insulating layer disposed on the body, a first electrode disposed in the insulating layer and spaced apart from the body by a first distance, a second electrode disposed in the insulating layer and spaced apart from the body by a second distance, and a conductive layer disposed in the insulating layer and spaced apart from the body by a third distance. The first electrode and the second electrode are supplied with different voltages, and the third distance is greater than the first distance.