감방사선성 수지 조성물 및 패턴 형성 방법

감도, LWR 성능, 발수성, 현상 결함 억제성이 우수한 레지스트막을 형성 가능하고, 보존 안정성이 양호한 감방사선성 수지 조성물 및 패턴 형성 방법을 제공한다. 하기 식 (1)로 표시되는 구조 단위 (I)과, 상기 구조 단위 (I)과는 다른 구조 단위를 포함하는 중합체와, 하기 식 (α)로 표시되는 감방사선성 산 발생제와, 용제를 포함하는 감방사선성 수지 조성물. JPEGpct00051.jpg4359 (상기 식 (1) 중, RK1은, 수소 원자, 불소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다. L1은, 탄소수 1 내지 5의 알칸디...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	FURUKAWA TAIICHI, FURUKAWA TSUYOSHI, EGAWA FUYUKI, INAMI HAJIME, NEMOTO RYUICHI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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