Apparatus for preparing hydrogen using corona discharge plasma
개시되는 플라즈마를 이용한 수소 제조장치는, 탄화수소계 가스를 포함하는 피드가스(feed gas)가 유동하는 관체로 구비되는 체임버; 평판으로 구비되되, 두께 방향의 양면 중 적어도 어느 하나의 면이 상기 피드가스의 유동방향과 평행하게 배치되도록 상기 체임버 내부에 설치되고, 접지전원과 전기적으로 연결되는 그라운드 전극; 상기 그라운드 전극과 평행하게 상기 체임버 내부에 설치되고, 평판으로 구비되며, 두께 방향의 양면 중 상기 그라운드 전극과 마주하는 면에 전체적으로 형성되고 서로 이웃하여 배치되며 각각은 상기 그라운드 전극을 향하...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 개시되는 플라즈마를 이용한 수소 제조장치는, 탄화수소계 가스를 포함하는 피드가스(feed gas)가 유동하는 관체로 구비되는 체임버; 평판으로 구비되되, 두께 방향의 양면 중 적어도 어느 하나의 면이 상기 피드가스의 유동방향과 평행하게 배치되도록 상기 체임버 내부에 설치되고, 접지전원과 전기적으로 연결되는 그라운드 전극; 상기 그라운드 전극과 평행하게 상기 체임버 내부에 설치되고, 평판으로 구비되며, 두께 방향의 양면 중 상기 그라운드 전극과 마주하는 면에 전체적으로 형성되고 서로 이웃하여 배치되며 각각은 상기 그라운드 전극을 향하는 첨단이 형성된 복수의 전극돌기를 가지는 에미터; 및 상기 에미터와 전기적으로 연결되어, 서로 마주하는 상기 그라운드 전극과 상기 에미터 사이의 영역에 상기 피드가스를 개질하는 플라즈마를 형성하는 설정된 전압을 인가하는 전원공급부;를 포함한다.
Disclosed is a device for manufacturing hydrogen by using plasma, the device comprising: a chamber provided as a tube body along which a feed gas comprising a hydrocarbon-based gas flows; a ground electrode provided as a flat plate and installed in the chamber such that at least one of both surfaces in the thickness direction is disposed in parallel to the direction in which the feed gas flows, the ground electrode being electrically connected to a ground power supply; an emitter installed in the chamber in parallel to the ground electrode and provided as a flat plate, the emitter having multiple electrode protrusions formed on the entire surface facing the ground electrode among both surfaces in the thickness direction, the electrode protrusions being disposed adjacent to each other, and each electrode protrusion having a pointed end formed to face the ground electrode; and a power supply portion electrically connected to the emitter so as to apply a configured voltage for forming plasma for modifying the feed gas in the area between the ground electrode and the emitter which face each other. |
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