SEMICONDUCTOR DEVICE

본 발명은 반도체 소자에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 활성 패턴을 포함하는 기판; 상기 활성 패턴 상의 채널 패턴, 상기 채널 패턴은 서로 이격되어 수직적으로 적층된 복수개의 반도체 패턴들을 포함하고; 상기 복수개의 반도체 패턴들에 연결된 소스/드레인 패턴; 상기 복수개의 반도체 패턴들 상의 게이트 전극, 상기 게이트 전극은 상기 복수개의 반도체 패턴들 중 서로 인접하는 반도체 패턴들 사이에 개재된 내측 전극들 및 최상부의 반도체 패턴 상의 외측 전극을 포함하고; 및 상기 외측 전극의 상면 상의 캐핑 패턴을 포함하되, 상기 외측 전극의 선폭은 제1 폭이고, 상기 외측 전극은 제1 높이를 가지며, 상기 제1 높이는 상기 제1 폭보다 작거나 같을 수 있다. Disclosed is a semiconductor device comprising a substrate including an active pattern, a channel pattern on the active pattern and including semiconductor patterns that are vertically stacked and spaced apart from each other, a source/drain pattern connected to the semiconductor patterns, a gate electrode on the semiconductor patterns and including inner electrodes between neighboring semiconductor patterns and an outer electrode on an uppermost semiconductor pattern, and a capping pattern on a top surface of the outer electrode. A line-width of the outer electrode is a first width. The outer electrode has a first height. The first height is equal to or less than the first width.