HARDMASK COMPOSITION HARDMASK LAYER AND METHOD OF FORMING PATTERNS

하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 중합체, 및 용매를 포함하는 하드마스크 조성물, 상기 하드마스크 조성물로부터 제조되는 하드마스크 층, 그리고 상기 하드마스크 조성물로부터 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다: [화학식 1] JPEGpat00039.jpg1965 상기 화학식 1의 정의는 명세서 내 기재한 바와 같다. A hardmask composition, a hardmask layer including a cured product of the hardmask composition, and a method of form...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	CHAE YUNJU
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY CINEMATOGRAPHY COMPOSITIONS BASED THEREON COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS MATERIALS THEREFOR METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Zusammenfassung:	하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 중합체, 및 용매를 포함하는 하드마스크 조성물, 상기 하드마스크 조성물로부터 제조되는 하드마스크 층, 그리고 상기 하드마스크 조성물로부터 패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다: [화학식 1] JPEGpat00039.jpg1965 상기 화학식 1의 정의는 명세서 내 기재한 바와 같다. A hardmask composition, a hardmask layer including a cured product of the hardmask composition, and a method of forming patterns using the hardmask layer including a cured product of the hardmask composition, the hardmask composition includes a polymer including a structural unit represented by Chemical Formula 1; and a solvent:A-B [Chemical Formula 1]