탄소 마스크 증착

부분적으로 에칭된 마스크를 두껍게 하기 위해 탄소 마스크를 증착하는 것에 관한 예가 개시된다. 일 예는 기판 상에 마스크 층을 형성하는 단계, 및 하나 이상의 에칭된 피처를 부분적으로 형성하기 위해 기판을 에칭하는 단계 - 기판의 에칭은은 또한 마스크 층의 에칭을 야기함 - 를 포함하는 방법을 제공한다. 방법은, 하나 이상의 에칭된 피처의 일부를 에칭한 후 그러나 하나 이상의 에칭된 피처의 에칭을 완료하기 전에, 플라즈마-강화 화학 기상 증착(PECVD)에 의해, 마스크 층 위에 탄소 마스크를 증착하는 단계를 더 포함한다. Exam...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SCHROEDER TODD, ANJOS RIGSBY DANIELA, REDDY KAPU SIRISH
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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