제 1 유지 장치, 제 3 유지 장치, 제 5 유지 장치, 반송 시스템, 노광 시스템, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법

이 노광 시스템은, 웨이퍼 상에 감광제를 도포 가능한 도포 장치로부터 반송되는 웨이퍼를 노광 가능한 노광 시스템으로서, 도포 장치로부터 반송된 웨이퍼의 제 1 면을 유지하는 제 1 유지부를 갖는 유지 장치와, 적어도 제 1 측정 영역을 갖고, 제 1 유지부에 의해 유지된 웨이퍼의 제 1 면과는 반대측의 제 2 면에 있어서 제 1 방향의 위치를 측정 가능한 제 1 측정부와, 제 1 측정 영역과는 상이한, 적어도 하나의 제 2 측정 영역을 갖고, 웨이퍼의 제 1 면 또는 제 2 면에 있어서 제 1 방향의 위치를 측정 가능한 제 2 측정부를 포함하는 측정 장치와, 웨이퍼를 에너지 빔으로 노광하는 노광 장치와, 측정 장치로부터 노광 장치의 사이에서 웨이퍼를 반송하는 반송 장치와, 제어 장치를 구비하고, 제어 장치는, 제 1 측정부에 의한 측정 결과 및 제 2 측정부에 의한 측정 결과에 기초하여, 반송 장치에 의해 웨이퍼를 노광 장치를 향하여 반송할지 여부를 판단한다. An exposure system is an exposure system capable of exposing a wafer transported from a coating apparatus capable of coating a photosensitive material onto the wafer, including: a holding apparatus which includes a first holding part holding a first surface of the wafer transported from the coating apparatus; a measurement apparatus which includes a first measurement part having at least a first measurement region and capable of measuring a position in a first direction of a second surface on the side opposite to the first surface of the wafer held by the first holding part and a second measurement part having at least one second measurement region different from the first measurement region and capable of measuring a position in the first direction of the first surface or the second surface of the wafer; an exposure apparatus which exposes the wafer with an energy beam; a transport apparatus which transports the wafer from the measurement apparatus to the exposure apparatus; and a control apparatus, wherein the control apparatus determines whether or not the wafer is to be transported toward the exposure apparatus by the transport apparatus based on a measurement result of the first measurement part and a measurement result of the second measurement part.