Supporter and epitaxial growth apparatus with it

실시예는 에피택셜 성장 공정 중 열변형을 최소화하여 서셉터와 웨이퍼를 안정적으로 지지할 수 있는 에피택셜 성장 장치용 서포터 및 이를 포함하는 에피택셜 성장 장치에 관한 것이다. 실시예의 일 측면에 따르면, 웨이퍼가 안착되는 서셉터와 회전 가능한 샤프트 사이에 장착되는 에피택셜 성장 장치용 서포터에 있어서, 상기 샤프트의 상단에 결합되는 중공 형태의 중심축; 상기 중심축과 연통하도록 반경 방향으로 연장되고, 상기 서셉터를 지지하는복수의 중공 형태의 지지암; 및 상기 중심축에 연결되도록 반경 방향으로 연장되고, 상기 서셉터를 지지하는 복수의 로드 형태의 보강암;을 포함하는 에피택셜 성장 장치용 서포터를 제공한다. The present embodiment relates to a support for an epitaxial growth apparatus and an epitaxial growth apparatus including the same, in which the support can stably support a susceptor and a wafer by minimizing thermal deformation in an epitaxial growth project. According to one aspect of an embodiment, provided is a support for an epitaxial growth apparatus, which is mounted between a susceptor for placing a wafer and a rotatable shaft, comprising: a hollow central shaft coupled above the shaft; a plurality of hollow support arms extending in the radial direction so as to communicate with the central shaft, and supporting the base; and a plurality of rod-shaped reinforcing arms extending in the radial direction so as to be connected to the central shaft and to support the base.