ROBOT FOR SIMULTANEOUS SUBSTRATE TRANSFER

예시적인 기판 프로세싱 시스템들은 복수의 프로세싱 구역들과 유체 커플링된 이송 구역을 정의하는 이송 구역 하우징을 포함할 수 있다. 이송 구역 하우징의 측벽은 기판들을 제공 및 수용하기 위한 밀봉가능 액세스를 정의할 수 있다. 시스템들은 이송 구역 내에 배치된 복수의 기판 지지부들을 포함할 수 있다. 시스템들은 또한, 제1 샤프트 및 제1 샤프트와 역회전가능한 제2 샤프트를 포함하는 중심 허브를 갖는 이송 장치를 포함할 수 있다. 이송 장치는 중심 허브를 통해 적어도 부분적으로 연장되는 편심 허브를 포함할 수 있고, 편심 허브는 중심 허브의 중심 축으로부터 반경방향으로 오프셋된다. 이송 장치는 또한, 편심 허브와 커플링된 엔드 이펙터를 포함할 수 있다. 엔드 이펙터는 복수의 기판 지지부들의 기판 지지부들의 수와 동일한 수의 암들을 갖는 복수의 암들을 포함할 수 있다. Exemplary substrate processing systems may include a transfer region housing defining a transfer region fluidly coupled with a plurality of processing regions. A sidewall of the transfer region housing may define a sealable access for providing and receiving substrates. The systems may include a plurality of substrate supports disposed within the transfer region. The systems may also include a transfer apparatus having a central hub including a first shaft and a second shaft counter-rotatable with the first shaft. The transfer apparatus may include an eccentric hub extending at least partially through the central hub, and which is radially offset from a central axis of the central hub. The transfer apparatus may also include an end effector coupled with the eccentric hub. The end effector may include a plurality of arms having a number of arms equal to the number of substrate supports of the plurality of substrate supports.