tilt SHOWERHEAD TILT MECHANISM

반도체 기판 프로세싱 장치의 상단 플레이트에서 샤워헤드 모듈을 지지하는 샤워헤드 틸트 조정 메커니즘이 제공되고, 샤워헤드 틸트 조정 메커니즘은 반도체 기판 프로세싱 장치에서 대면플레이트에 인접한 기판 페데스탈 모듈의 상부 표면에 대하여 샤워헤드 모듈의 대면플레이트의 갭/틸트/평탄화 (planarization) 를 조정하기 위해 코어스 조정 및 정밀한 조정을 제공하는 차동 (differential) 스크루를 포함한다. A showerhead tilt adjustment mechanism is provided which supports...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LUO BIN, THOMAS TIMOTHY SCOTT, KAMP DAVID, SLEVIN DAMIEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	반도체 기판 프로세싱 장치의 상단 플레이트에서 샤워헤드 모듈을 지지하는 샤워헤드 틸트 조정 메커니즘이 제공되고, 샤워헤드 틸트 조정 메커니즘은 반도체 기판 프로세싱 장치에서 대면플레이트에 인접한 기판 페데스탈 모듈의 상부 표면에 대하여 샤워헤드 모듈의 대면플레이트의 갭/틸트/평탄화 (planarization) 를 조정하기 위해 코어스 조정 및 정밀한 조정을 제공하는 차동 (differential) 스크루를 포함한다. A showerhead tilt adjustment mechanism is provided which supports a showerhead module in a top plate of a semiconductor substrate processing apparatus, the showerhead tilt adjustment mechanism including a differential screw which provides coarse and fine adjustments to adjust gap/tilt/planarization of a faceplate of the showerhead module with respect to an upper surface of a substrate pedestal module adjacent the faceplate in the semiconductor substrate processing apparatus.