Chemical supply device and chemical supply system including the same

다양한 실시예에 따르면, 케미컬 공급 장치로서, 상기 케미컬 공급 장치는, 반도체 공정에 이용되는 케미컬 용액을 수용하고, 상기 케미컬 용액을 출력 가스로 기화시키기 위한 입력 가스를 투입받는 버블러; 상기 버블러를 수용하고, 상기 케미컬 용액의 온도를 조절하기 위한 항온조; 및 상기 버블러와 유체적으로 연결되고, 상기 케미컬 용액, 상기 입력 가스 및 출력 가스의 유로를 제공하도록 구성된 밸브 모듈; 을 포함하고, 상기 버블러로 투입되기 위한 입력 가스를 저장하고, 상기 버블러와 연결된 가스 공급부; 상기 버블러로 투입되기 위한...

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Hauptverfasser: KIM JEEHUN, KIM MYEONG MUN, LIM TAE HWA
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:다양한 실시예에 따르면, 케미컬 공급 장치로서, 상기 케미컬 공급 장치는, 반도체 공정에 이용되는 케미컬 용액을 수용하고, 상기 케미컬 용액을 출력 가스로 기화시키기 위한 입력 가스를 투입받는 버블러; 상기 버블러를 수용하고, 상기 케미컬 용액의 온도를 조절하기 위한 항온조; 및 상기 버블러와 유체적으로 연결되고, 상기 케미컬 용액, 상기 입력 가스 및 출력 가스의 유로를 제공하도록 구성된 밸브 모듈; 을 포함하고, 상기 버블러로 투입되기 위한 입력 가스를 저장하고, 상기 버블러와 연결된 가스 공급부; 상기 버블러로 투입되기 위한 케미컬 용액을 저장하기 위한 케미컬 공급부; 및 상기 버블러와 공정 라인을 통해 유체적으로 연결되고, 상기 출력 가스를 전달받아 공정을 수행하는 공정 장비; 상기 밸브 모듈과 상기 버블러 사이에 유체적으로 연결되고, 상기 공정 장비로 전달되는 상기 출력 가스의 유량을 측정하도록 구성된 유량 센서; 및 컨트롤러; 를 포함하고, 상기 컨트롤러는, 상기 유량 센서로부터 획득된 상기 출력 가스의 유량 정보에 기초하여, 상기 케미컬 공급 장치의 에러를 판단하도록 구성된 케미컬 공급 시스템이 제공될 수 있다.