Chemical supply device and chemical supply system including the same

다양한 실시예에 따르면, 반도체 공정에 이용되는 케미컬 용액을 수용하고, 상기 케미컬 용액을 출력 가스로 기화시키기 위한 입력 가스를 투입받는 버블러; 상기 버블러를 수용하고, 상기 케미컬 용액의 온도를 조절하기 위한 항온조; 상기 버블러와 유체적으로 연결되고, 상기 케미컬 용액, 상기 입력 가스 및 출력 가스의 유로를 제공하도록 구성된 밸브 모듈; 상기 버블러에 담긴 상기 케미컬 용액의 잔존 레벨을 감지하기 위한 레벨 센서; 컨트롤러; 및 상기 컨트롤러를 구동시키기 위한 프로그램이 저장된 메모리;를 포함하고, 상기 컨트롤러는, 상기 레벨 센서로부터 획득한 상기 케미컬 용액의 잔존 레벨에 기초하여, 상기 출력 가스의 유량이 지정된 유량을 가지도록 상기 입력 가스의 타겟 유량을 판단하도록 구성된 케미컬 공급 장치가 제공될 수 있다. According to one embodiment, a chemical supply device includes: a bubbler configured to contain a chemical solution which is used in a semiconductor process and to receive an input gas for vaporizing the chemical solution into an output gas; a constant-temperature bath configured to contain the bubbler and to adjust a temperature of the chemical solution; a valve module fluidically connected with the bubbler and configured to provide channels for the chemical solution, the input gas, and the output gas; a level sensor configured to detect a remaining level of the chemical solution; a controller; and a memory configured to store a program for operating the controller, and the controller is configured to determine a target flow rate of the input gas to cause a flow rate of the output gas to have a designated flow rate, based on the remaining level of the chemical solution.