ELECTRODE LAMINATE AND MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME AND OPTICAL LAMINATE COMPRISING THE SAME
본 발명은, 편광판 및 상기 편광판의 일면 상에 배치되는 투명 도전층을 포함하는, 전극필름; 및 상기 전극필름 상에 배치되는, 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층의 평균 두께는, 30 내지 80nm이고, 상기 코팅층의 임의의 두 지점의 두께 편차는, 5nm 이하인, 전극 적층체 및 이의 제조 방법과, 이를 포함하는 광학 적층체에 관한 것이다. The present invention relates to an electrode laminate, a manufacturing method therefor and an optical lamina...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 본 발명은, 편광판 및 상기 편광판의 일면 상에 배치되는 투명 도전층을 포함하는, 전극필름; 및 상기 전극필름 상에 배치되는, 코팅층을 포함하며, 상기 코팅층의 평균 두께는, 30 내지 80nm이고, 상기 코팅층의 임의의 두 지점의 두께 편차는, 5nm 이하인, 전극 적층체 및 이의 제조 방법과, 이를 포함하는 광학 적층체에 관한 것이다.
The present invention relates to an electrode laminate, a manufacturing method therefor and an optical laminate comprising same, the electrode laminate comprising: an electrode film, which includes a polarizing plate and a transparent conductive layer arranged on the one surface of the polarizing plate; and a coating layer arranged on the electrode film, wherein the average thickness of the coating layer is 30-80 nm, and the deviation in thickness between any two points of the coating layer is 5nm or less. |
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