SHOWERHEAD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS COMPRISING THE SAME

샤워헤드 및 이를 포함하는 플라즈마 처리 장치가 제공된다. 플라즈마 처리 장치는 공정이 수행되는 챔버, 챔버 내에, 기판을 지지하는 지지부, 챔버 내에, 소스 가스를 기초로, 플라즈마가 생성되는 제1 플라즈마 영역, 제1 플라즈마 영역 아래에, 지지부가 배치되는 제2 플라즈마 영역, 제1 플라즈마 영역과 제2 플라즈마 영역 사이에 배치되는 샤워헤드, 샤워헤드를 통해 제2 플라즈마 영역에 제1 공정 가스를 주입하는 제1 가스 공급부, 및 샤워헤드를 통해 제2 플라즈마 영역에 제2 공정 가스를 주입하는 제2 가스 공급부를 포함하고, 샤...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM YI HWAN, JEON HYEON JIN, KIM YEON TAE, LEE WON KI, LEE MIN SU, KANG YON JOO, JEON HYEONG UN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY
Online-Zugang:	Volltext bestellen
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