하전 입자 빔 시스템에서 전자 소스를 세정하는 시스템 및 방법

전자 빔 장치에서 전자 소스의 방출기 팁으로부터 오염물을 제거하는 시스템 및 방법이 개시된다. 전자 빔 장치는, 전자를 방출하도록 구성된 방출기 팁을 포함하는 전자 소스 및 방출기 팁의 일 부분을 조명하는 광학 빔을 생성하여 광학 빔의 표면 모드를 여기시키도록 구성되는 광학 소스를 포함하며, 여기된 표면 모드는 방출기 팁의 조명된 부분의 표면으로부터 오염물을 제거하는 것을 용이하게 한다. 여기된 표면 모드는 전파 표면파 또는 국부 표면파를 포함할 수 있다. 방출기 팁은 격자 구조를 포함할 수 있으며, 격자 구조의 특성은 광학 빔의 파동 벡터에 매칭된다. Systems and methods of removing a contaminant from an emitter tip of an electron source in an electron beam apparatus are disclosed. An electron beam apparatus may include an electron source comprising an emitter tip configured to emit electrons and an optical source configured to generate an optical beam illuminating a portion of the emitter tip to excite a surface mode of the optical beam, wherein the excited surface mode facilitates removal of a contaminant from a surface of the illuminated portion of the emitter tip. The excited surface mode may comprise a propagating surface wave or a localized surface wave. The emitter tip may comprise a grating structure, wherein a characteristic of the grating structure matches a wavevector of the optical beam.