리소그래피 프로세스에서 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법, 투영 시스템 및 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치
본 발명은 투영 페이즈 및 아이들 페이즈를 가지는 리소그래피 프로세스에서의 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법으로서, 제 1 제어 루프에서 제 1 모듈의 제 1 위치를 제어하는 단계 - 상기 제 1 모듈은 투영 시스템의 위치-제어 미러이고, 상기 제 1 제어 루프는 제 1 대역폭을 가지며, 제 1 사이클릭 오차를 가지는 제 1 위치 측정 시스템을 포함함 - 를 포함하고, 상기 제 1 위치를 제어하는 단계는, 상기 제 1 사이클릭 오차의 제 1 메인 주파수가 상기 제 1 제어 루프의 제 1 대역폭보다 높아지도록, 적어도 상기 투영...
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| Format: | Patent |
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| creator | DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS BUTLER HANS |
| description | 본 발명은 투영 페이즈 및 아이들 페이즈를 가지는 리소그래피 프로세스에서의 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법으로서, 제 1 제어 루프에서 제 1 모듈의 제 1 위치를 제어하는 단계 - 상기 제 1 모듈은 투영 시스템의 위치-제어 미러이고, 상기 제 1 제어 루프는 제 1 대역폭을 가지며, 제 1 사이클릭 오차를 가지는 제 1 위치 측정 시스템을 포함함 - 를 포함하고, 상기 제 1 위치를 제어하는 단계는, 상기 제 1 사이클릭 오차의 제 1 메인 주파수가 상기 제 1 제어 루프의 제 1 대역폭보다 높아지도록, 적어도 상기 투영 페이즈 도중에 상기 제 1 모듈을 연속적으로 이동시키는 것을 포함하는, 사이클릭 오차 효과 감소 방법을 제공한다.
The invention provides a method of reducing cyclic error effects in a lithographic process having a projection phase and an idle phase, the method comprising: controlling in a first control loop a first position of a first module, the first module being a position controlled mirror of a projection system, the first control loop having a first bandwidth and comprising a first position measurement system having a first cyclic error, wherein controlling the first position comprises continuously moving the first module at least during the projection phase, such that a first main frequency of the first cyclic error will be above the first bandwidth of the first control loop. |
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The invention provides a method of reducing cyclic error effects in a lithographic process having a projection phase and an idle phase, the method comprising: controlling in a first control loop a first position of a first module, the first module being a position controlled mirror of a projection system, the first control loop having a first bandwidth and comprising a first position measurement system having a first cyclic error, wherein controlling the first position comprises continuously moving the first module at least during the projection phase, such that a first main frequency of the first cyclic error will be above the first bandwidth of the first control loop.</description><language>kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240813&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240122894A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240813&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240122894A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS</creatorcontrib><creatorcontrib>BUTLER HANS</creatorcontrib><title>리소그래피 프로세스에서 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법, 투영 시스템 및 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치</title><description>본 발명은 투영 페이즈 및 아이들 페이즈를 가지는 리소그래피 프로세스에서의 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법으로서, 제 1 제어 루프에서 제 1 모듈의 제 1 위치를 제어하는 단계 - 상기 제 1 모듈은 투영 시스템의 위치-제어 미러이고, 상기 제 1 제어 루프는 제 1 대역폭을 가지며, 제 1 사이클릭 오차를 가지는 제 1 위치 측정 시스템을 포함함 - 를 포함하고, 상기 제 1 위치를 제어하는 단계는, 상기 제 1 사이클릭 오차의 제 1 메인 주파수가 상기 제 1 제어 루프의 제 1 대역폭보다 높아지도록, 적어도 상기 투영 페이즈 도중에 상기 제 1 모듈을 연속적으로 이동시키는 것을 포함하는, 사이클릭 오차 효과 감소 방법을 제공한다.
The invention provides a method of reducing cyclic error effects in a lithographic process having a projection phase and an idle phase, the method comprising: controlling in a first control loop a first position of a first module, the first module being a position controlled mirror of a projection system, the first control loop having a first bandwidth and comprising a first position measurement system having a first cyclic error, wherein controlling the first position comprises continuously moving the first module at least during the projection phase, such that a first main frequency of the first cyclic error will be above the first bandwidth of the first control loop.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFj6etmaN209r7bveD1vxtspexTeTml5vXDOm5Ydb7qWvJk-4U3LHIU3TWvezN3ytnHL62VrFd7MWPJmwwqFt7NWvNq85_XSPQqvNkwAGvCme87bpiWvu6YovN6w8vWmqToKbzvWvJnRqACUAJr0tnUOUKIfQ_DN3BaFt_1r3k5d8XbqDLBuNOe8mbf0zc4ZPAysaYk5xam8UJqbQdnNNcTZQze1ID8-tbggMTk1L7Uk3jvIyMDIxMDQyMjC0sTRmDhVAC6Sh2g</recordid><startdate>20240813</startdate><enddate>20240813</enddate><creator>DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS</creator><creator>BUTLER HANS</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240813</creationdate><title>리소그래피 프로세스에서 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법, 투영 시스템 및 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치</title><author>DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS ; BUTLER HANS</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240122894A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS</creatorcontrib><creatorcontrib>BUTLER HANS</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>DE JONGH ROBERTUS JOHANNES MARINUS</au><au>BUTLER HANS</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>리소그래피 프로세스에서 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법, 투영 시스템 및 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치</title><date>2024-08-13</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명은 투영 페이즈 및 아이들 페이즈를 가지는 리소그래피 프로세스에서의 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법으로서, 제 1 제어 루프에서 제 1 모듈의 제 1 위치를 제어하는 단계 - 상기 제 1 모듈은 투영 시스템의 위치-제어 미러이고, 상기 제 1 제어 루프는 제 1 대역폭을 가지며, 제 1 사이클릭 오차를 가지는 제 1 위치 측정 시스템을 포함함 - 를 포함하고, 상기 제 1 위치를 제어하는 단계는, 상기 제 1 사이클릭 오차의 제 1 메인 주파수가 상기 제 1 제어 루프의 제 1 대역폭보다 높아지도록, 적어도 상기 투영 페이즈 도중에 상기 제 1 모듈을 연속적으로 이동시키는 것을 포함하는, 사이클릭 오차 효과 감소 방법을 제공한다.
The invention provides a method of reducing cyclic error effects in a lithographic process having a projection phase and an idle phase, the method comprising: controlling in a first control loop a first position of a first module, the first module being a position controlled mirror of a projection system, the first control loop having a first bandwidth and comprising a first position measurement system having a first cyclic error, wherein controlling the first position comprises continuously moving the first module at least during the projection phase, such that a first main frequency of the first cyclic error will be above the first bandwidth of the first control loop.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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| title | 리소그래피 프로세스에서 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법, 투영 시스템 및 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치 |
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