리소그래피 프로세스에서 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법, 투영 시스템 및 투영 시스템을 포함하는 리소그래피 장치

본 발명은 투영 페이즈 및 아이들 페이즈를 가지는 리소그래피 프로세스에서의 사이클릭 오차 효과를 감소시키는 방법으로서, 제 1 제어 루프에서 제 1 모듈의 제 1 위치를 제어하는 단계 - 상기 제 1 모듈은 투영 시스템의 위치-제어 미러이고, 상기 제 1 제어 루프는 제 1 대역폭을 가지며, 제 1 사이클릭 오차를 가지는 제 1 위치 측정 시스템을 포함함 - 를 포함하고, 상기 제 1 위치를 제어하는 단계는, 상기 제 1 사이클릭 오차의 제 1 메인 주파수가 상기 제 1 제어 루프의 제 1 대역폭보다 높아지도록, 적어도 상기 투영 페이즈 도중에 상기 제 1 모듈을 연속적으로 이동시키는 것을 포함하는, 사이클릭 오차 효과 감소 방법을 제공한다. The invention provides a method of reducing cyclic error effects in a lithographic process having a projection phase and an idle phase, the method comprising: controlling in a first control loop a first position of a first module, the first module being a position controlled mirror of a projection system, the first control loop having a first bandwidth and comprising a first position measurement system having a first cyclic error, wherein controlling the first position comprises continuously moving the first module at least during the projection phase, such that a first main frequency of the first cyclic error will be above the first bandwidth of the first control loop.