기판 프로세싱 시스템의 복수의 스테이션들로의 가스 플로우를 밸런싱하기 위한 밸브 시스템들

기판 프로세싱 시스템은 N 개의 스테이션들에 각각 연결된 N 개의 밸브 시스템들을 포함한다. 밸브 시스템 각각은 매니폴드 블록, 복수의 밸브들, 및 플로우 제어 디바이스를 포함한다. 매니폴드 블록은 프로세스 가스 및 불활성 가스를 수용하기 위한 유입구들, 스테이션에 연결된 유출구, 및 매니폴드 블록 내에 배치되고 (dispose) 유입구들 및 유출구에 연결된 복수의 가스 플로우 채널들을 포함한다. 밸브들은 매니폴드 블록에 장착되고 유출구를 통한 프로세스 가스 및 불활성 가스의 플로우를 제어한다. 플로우 제어 디바이스는 매니폴드 블록...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	ROBERTS MICHAEL PHILIP, BLAQUIERE RYAN, SEETHARAMA BHARATH KUMAR
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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