기판 프로세싱 시스템의 복수의 스테이션들로의 가스 플로우를 밸런싱하기 위한 밸브 시스템들

기판 프로세싱 시스템은 N 개의 스테이션들에 각각 연결된 N 개의 밸브 시스템들을 포함한다. 밸브 시스템 각각은 매니폴드 블록, 복수의 밸브들, 및 플로우 제어 디바이스를 포함한다. 매니폴드 블록은 프로세스 가스 및 불활성 가스를 수용하기 위한 유입구들, 스테이션에 연결된 유출구, 및 매니폴드 블록 내에 배치되고 (dispose) 유입구들 및 유출구에 연결된 복수의 가스 플로우 채널들을 포함한다. 밸브들은 매니폴드 블록에 장착되고 유출구를 통한 프로세스 가스 및 불활성 가스의 플로우를 제어한다. 플로우 제어 디바이스는 매니폴드 블록에 장착되고 그리고 매니폴드 블록을 통해 N 개의 스테이션들 중 일 스테이션 내로 불활성 가스의 플로우를 제어한다. N 개의 밸브 시스템들 각각의 플로우 제어 디바이스는 N 개의 스테이션들에서 불활성 가스의 플로우를 밸런싱하도록 캘리브레이팅된다 (calibrate). A substrate processing system includes N valve systems connected to N stations, respectively. Each valve system includes a manifold block, a plurality of valves, and a flow control device. The manifold block includes inlets to receive a process gas and an inert gas, an outlet connected to a station, and a plurality of gas flow channels disposed within the manifold block and connected to the inlets and the outlet. The valves are mounted to the manifold block and control flow of the process gas and the inert gas through the outlet. The flow control device is mounted to the manifold block and controls flow of the inert gas through the manifold block into the one of the N stations. The flow control device of each of the N valve systems is calibrated to balance the flow of the inert gas in the N stations.