PHOTO MASK MODULE
실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복...
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| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
| Schlagworte: | |
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| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | JO YEONG DEUK UM TAE IN YOON ZIN SEOK PAIK JEE HEUM |
| description | 실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복수의 선패턴을 포함하고, 상기 제 1-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 1 패턴을 포함하고, 상기 제 2-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 2 패턴을 포함하고, 상기 제 1 패턴 및 상기 제 2 패턴의 폭은 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부의 폭의 5% 내지 20%이다. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20240121603A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20240121603A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20240121603A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZBAM8PAP8VfwdQz2VvD1dwn1ceVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGhkaGZgbGjsbEqQIAjJMeeg</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>PHOTO MASK MODULE</title><source>esp@cenet</source><creator>JO YEONG DEUK ; UM TAE IN ; YOON ZIN SEOK ; PAIK JEE HEUM</creator><creatorcontrib>JO YEONG DEUK ; UM TAE IN ; YOON ZIN SEOK ; PAIK JEE HEUM</creatorcontrib><description>실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복수의 선패턴을 포함하고, 상기 제 1-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 1 패턴을 포함하고, 상기 제 2-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 2 패턴을 포함하고, 상기 제 1 패턴 및 상기 제 2 패턴의 폭은 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부의 폭의 5% 내지 20%이다.</description><language>eng ; kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240809&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240121603A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240809&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240121603A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>JO YEONG DEUK</creatorcontrib><creatorcontrib>UM TAE IN</creatorcontrib><creatorcontrib>YOON ZIN SEOK</creatorcontrib><creatorcontrib>PAIK JEE HEUM</creatorcontrib><title>PHOTO MASK MODULE</title><description>실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복수의 선패턴을 포함하고, 상기 제 1-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 1 패턴을 포함하고, 상기 제 2-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 2 패턴을 포함하고, 상기 제 1 패턴 및 상기 제 2 패턴의 폭은 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부의 폭의 5% 내지 20%이다.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBAM8PAP8VfwdQz2VvD1dwn1ceVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHeQUYGRiYGhkaGZgbGjsbEqQIAjJMeeg</recordid><startdate>20240809</startdate><enddate>20240809</enddate><creator>JO YEONG DEUK</creator><creator>UM TAE IN</creator><creator>YOON ZIN SEOK</creator><creator>PAIK JEE HEUM</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240809</creationdate><title>PHOTO MASK MODULE</title><author>JO YEONG DEUK ; UM TAE IN ; YOON ZIN SEOK ; PAIK JEE HEUM</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240121603A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>JO YEONG DEUK</creatorcontrib><creatorcontrib>UM TAE IN</creatorcontrib><creatorcontrib>YOON ZIN SEOK</creatorcontrib><creatorcontrib>PAIK JEE HEUM</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>JO YEONG DEUK</au><au>UM TAE IN</au><au>YOON ZIN SEOK</au><au>PAIK JEE HEUM</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PHOTO MASK MODULE</title><date>2024-08-09</date><risdate>2024</risdate><abstract>실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복수의 선패턴을 포함하고, 상기 제 1-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 1 패턴을 포함하고, 상기 제 2-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 2 패턴을 포함하고, 상기 제 1 패턴 및 상기 제 2 패턴의 폭은 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부의 폭의 5% 내지 20%이다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; kor |
| recordid | cdi_epo_espacenet_KR20240121603A |
| source | esp@cenet |
| subjects | APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS |
| title | PHOTO MASK MODULE |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-11T12%3A19%3A24IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=JO%20YEONG%20DEUK&rft.date=2024-08-09&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20240121603A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |